No dia 19 de maio de 2026, o imec anunciou a fabricação do primeiro dispositivo integrado de qubit de ponto quântico produzido com a litografia High NA EUV. Essa técnica, já consolidada na produção de chips convencionais, agora permite padronizar gaps de 6 nanômetros entre eletrodos de controle, algo essencial para aumentar o acoplamento entre qubits vizinhos de forma exponencial.

Da litografia avançada à interoperabilidade entre qubits e processos de silício

O imec trabalha com qubits de spin em pontos quânticos de silício, uma abordagem que reutiliza décadas de inovação em semicondutores. Em vez de criar uma nova cadeia de suprimentos, a equipe integrou a High NA EUV ao ecossistema existente de fabricação de chips. Kristiaan De Greve, fellow do imec e diretor do programa de Computação Quântica, explicou: “A High NA EUV possibilita a padronização precisa de qubits de ponto quântico de silício. Como a força de acoplamento entre pontos quânticos vizinhos aumenta exponencialmente com o gap entre eles, precisamos padronizar de forma confiável gaps de poucos nanômetros entre os eletrodos de controle dos pontos quânticos. Isso é um feito de engenharia real, graças às nossas equipes de integração e padronização e à tecnologia High NA EUV excepcional da ASML”.

A pesquisa ocorreu no laboratório conjunto High NA do imec e da ASML em Veldhoven, nos Países Baixos. A demonstração foi apresentada no ITF World, também em 19 de maio de 2026. Sofie Beyne, líder de projeto e engenheira de integração quântica no imec, completou: “Podemos alavancar décadas de inovação em semicondutores e reutilizar todo o ecossistema de escalonamento de silício, levando dispositivos quânticos além de experimentos de laboratório para sistemas grandes e fabricáveis. Essa é a vantagem clara dos qubits baseados em silício”.

Por que gaps de 6 nanômetros importam para a diplomacia digital entre tecnologias

Pense na fabricação de chips como uma negociação entre plataformas: cada camada de silício precisa “conversar” com a próxima sem perda de sinal. Aqui, a High NA EUV age como o diplomata que constrói a ponte entre o mundo quântico e o ecossistema de produção em massa já existente. Quando o gap entre pontos quânticos é reduzido a 6 nanômetros, o acoplamento cresce exponencialmente, permitindo que qubits troquem informações de forma mais estável — exatamente o tipo de interoperabilidade que falta em muitos protótipos quânticos isolados.

Essa conexão não é apenas técnica. Ela transforma qubits de silício em peças que podem se integrar a linhas de produção de chips clássicos, criando valor em cadeia: o mesmo equipamento que fabrica processadores de última geração agora pode produzir unidades quânticas. Como isso muda a forma como empresas e laboratórios colaboram? Quais novas integrações entre hardware quântico e software clássico se tornam viáveis quando a fabricação compartilha o mesmo ecossistema?

Próximos passos concretos para quem acompanha o setor

O resultado mostra que a litografia High NA EUV já está pronta para padronizar redes de qubits funcionais. O imec continua a desenvolver essa tecnologia no laboratório conjunto com a ASML, focando em aumentar o número de qubits e a estabilidade. Para profissionais que trabalham com semicondutores ou computação avançada, o caminho agora é monitorar como outras fundições adotarão a mesma técnica para integrar qubits em seus fluxos de produção existentes.